磷化铟气相多晶炉

磷化铟气相多晶炉
磷化铟气相多晶炉
半导体晶体设备

磷化铟气相多晶炉

磷化铟气相法多晶合成炉采用两温区气相输运合成工艺,在高压密闭石英反应系统内实现高纯红磷与金属的直接化合,是制备电子级磷化铟多晶原料的关键装备。设备采用精确的温度与压力控制,可合成高纯度、化学计量比精确的 InP 多晶料,满足单晶生长原料要求。

主要技术特点

  • 水平式双温区设计,低温区控制磷蒸发温度,高温区控制合成反应温度
  • 高压不锈钢腔体与石英安瓿双重密封,配备氢氧焰石英封管工位
  • 程序升温控制,合成过程全自动运行,避免爆管与原料氧化
  • 配备高纯气体净化系统,反应环境水氧含量≤1ppm
  • 合成完成后支持原位定向凝固,直接制备可用于单晶生长的多晶锭

核心性能指标

参数项技术指标
合成方法气相输运直接合成法
最高温度1280℃
高温区控温精度±0.2℃
低温区控温范围400-600℃,精度±0.2℃
最高压力10.0MPa
单炉合成量4~6kg
多晶纯度≥99.9999%(6N)
化学计量比偏差In/P ≤ 0.1%
合成周期72-96 小时/炉
载流子浓度n 型 ≤ 5×10¹⁵cm⁻³(未掺杂)
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